리소그래피

리소그래피 공정 화학 물질의 오염물을 박멸하는 필터

비용 절감 수율 증가

Pall 리소그래피 필터로 반도체 수율 증가

Pall 리소그래피 필터는 다양한 멤브레인 재료를 사용하여 리소그래피 공정 화학 물질에서 생기는 오염 물질을 효과적으로 제거합니다. 이 필터는 유해한 미립자 오염, 젤 마이크로브리지 결함, 미세 기포 공극 결함 및 웨이퍼 표면의 금속 오염성을 제거합니다. 높은 습윤성의 멤브레인은 공기 이동을 방해하지 않아 미세 기포 형성이 적고 퍼지 시간이 단축됩니다.

 

최적화된 필터 설계는 시동 중 화학 물질 사용을 줄이며 웨이퍼 표면에 결함을 유발하는 기포 형성을 최소화합니다. 공기를 정화하는 필터의 능력은 코팅 결함을 줄이고 수율을 높이는 데 중요한 미세 기포의 형성을 방지합니다. Ultiplet 필터 설계는 필터 전체의 차압이 낮아 디스펜스 도중 기포 형성이 최소화됩니다.

 

Pall의 혁신적인 필터 디자인은 넓은 표면적을 사용하여 낮은 차압을 제공하며 젤 제거 효율을 개선하고 미세 기포 형성을 최소화합니다. 디스펜스 필터의 표면적으로 최대화된 멤브레인은 포토레지스트에서 젤 제거를  돕고 젤이 필터 멤브레인을 통해 웨이퍼 표면으로 나가는 것을 방지합니다.

 

작동 압력이 낮으면 광화학 물질이 디스펜스 공정 중에 고압에서 저압으로 디스펜스되기 때문에 필터에서 광화학 물질의 탈기체 현상이 발생하지 않습니다. Pall의 비대칭 멤브레인과 같은 저압 강하를 특징으로 하는 필터를 사용할 경우 효과가 가장 잘 발휘됩니다. 나일론 6,6 및 고밀도 폴리에틸렌(HDPE) 멤브레인은 일반적인 리소그래피 화학 물질과 완전히 호환되고 추출물에 대해 매우 깨끗하며 우수한 습윤성을 제공합니다.

 

Pall 리소그래피 필터는 복잡한 포토레지스트 화학 물질에서 발생하는 입자를 최소화합니다. 적절한 필터를 선택하면 레지스트의 정교한 화학적 성질을 변경하지 않고도 기본적으로 오염 물질을 제거하거나 최소화할 수 있습니다.

 

응용

 

적절한 리소그래피 필터를 선택하려면 몇 가지 요인을 고려해야 합니다. 벌크 필터와 POU(Point-of-Use) 디스펜스 필터는 원치 않는 입자를 제거합니다. POU(Point-of-Use) 필터는 모든 정밀 디스펜스 시스템의 필수적인 부분이므로 웨이퍼 코팅의 결함을 줄이기 위해서는 이 필터를 신중하게 선택해야 합니다. 입자 및 젤 제거 외에도 미세 기포 형성의 최소화, 화학적 소비 감소 및 우수한 호환성은 POU(Point-of-Use) 필터 선택을 위한 모든 핵심 영역입니다. Pall의 POU(Point-of-Use) 캡슐 설계는 또한 캡슐의 최고 및 최저 지점에 환기구 및 배출구가 있으므로 완전하고 쉽게 벤팅 할 수 있습니다.

 

이점:

 

  • 장비 중단 시간 감소
  • 더 높은 수율
  • 더 빠른 시작을 위한 우수한 습윤성
  • 모든 리소그래피 적용 분야을 위한 다양한 멤브레인
  • 미세 기포 형성을 최소화 하기 위한 급속 벤팅 설계
  • 화학 폐기물 감소를 위한 낮은 hold-up volume

 

Pall의 리소그래피 필터 기술은 웨이퍼 표면 결함을 줄이면서 제조 작업을 간소화하고 (디스펜싱 시스템의 가동 중지 시간을 줄입니다. 자세한 정보를 위해 Pall의 전문가에게 포토리소그래피 공정을 최적화하는 방법에 대해 문의하십시오.

 

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