豊富な実績のあるポールのろ過システムは、マイクロエレクトロニクス産業で幅広く使用され、コスト低減、信頼性の向上、製造プロセスの効率の最大化をサポートしています。さらなる生産拡大に応じて、効率的な製造プロセス実現のためには、粒子、不純物、汚染の管理が極めて重要です。こうした課題を解決できれば、生産稼働時間、メンテナンス頻度、製品品質、設備寿命、事業成果全体に直接貢献することができます。

今日、半導体デバイスの設計では、薄膜化、高速化、記憶容量増大化、回路の複雑化がさらに進んでいます。これに対応する新技術では、こうしたデバイスを効率的に製造するため、使用する薬液やシステムに高い清浄度が要求されます。より速い、より小さい製品を求める業界傾向を受けて、ろ過の役割が一層重要になっています。

エレクトロニクス製品の製造プロセスは汚染に極めて敏感で、不純物や粒子がほんのわずかに混入するだけで製品品質が低下します。水や粒子等の不純物は、製造工程の各段階に直接影響し、予期せぬメンテナンス作業を増やし、表面欠陥を生じさせ、ダウンタイムによるコスト増加を招き、最終製品の品質と性能の大きな低下をもたらします。

プロセスガス流路から分子レベルの粒子を除去することは、設備の寿命維持に欠かせないだけでなく、最終製品に期待される品質と性能の実現につながります。新製品に必要とされる集積回路デバイスを効率的に製造するには、重要な製造プロセスから汚染を一切排除する必要があります。

汚染除去ができなければ、欠陥品が発生し、絶縁破壊を引き起こし、コスト増を招きます。

市場がより一層安価なエレクトロニクス製品を求める中で、製造メーカーは、価格競争に打ち勝つために、製造コストは最大の関心事です。製造コストの削減を実現するには効果的なろ過が不可欠です。優れたろ過技術の導入により、薬液使用期間が延長され、欠陥が減り、設備寿命が延び、プロセスが安定化します。

当社のろ過技術、製造実績、プロセス知識は、マイクロエレクトロニクス産業におけるあらゆる重要プロセスの改善に活用いただけます。
 

プロセスガス、スラリー、高純度化学薬品、インクジェット用インク、溶剤、レジストなど、多様なプロセス流体のろ過用に高性能製品を提供しています。原材料の前処理用から、最終コーティング加工用等まで、マイクロエレクトロニクス製造メーカーのお客様が要求する最先端レベルまで対応できる膜ろ過製品を開発しています。

当社のろ過技術は、重要プロセス流体から粒子や不純物などの汚染を除去します。生産効率を上げ、製品性能を改良し、事業成果全体を向上させる、プロセス条件のより優れた制御方法については、当社までお問い合わせください。