データストレージ

従来のデータ記憶装置の要件が500 GB/プラッター技術から1TB /プラッター技術へと移る中、データストレージ業界はPMR（垂直メディア記録）からHAMR（熱アシストメディア記録）とBPM（ビットパターンメディア）へと移行しています。

これらの新しい技術基盤は、グライドの高さ（記録ヘッドと記録メディア間での高さの差異）や浮上高など、主要領域での大幅な低減が必要となる可能性が大いにあります。さらに、精度の高いろ過技術が、ニッケルめっき、基板／メディア洗浄、潤滑剤コーティングなどの用途に求められます。

1TB/プラッター技術向けに開発されている新しいツールやプロセスは、汚染管理にますます依存します。ポールには、これらの将来的なニーズを満たす高度なメンブレンによるろ過・精製技術があります。

HAMR（熱アシスト媒体記録）やBPM（ビットパターン媒体）などの新たなデータ記憶装置技術により、要求される製造精度がますます高まりつつあります。データ記憶装置の製造プロセスに汚染物質が存在すると大きな問題や懸念が生じます。なぜなら、製品品質が重要な滑り面を急速に悪化させ、一体形成表面に欠陥を招くおそれがあるからです。プロセス流路から分子レベルの粒子を除去することが重要です。

当社は、業界での長年の使用実績により、さらなる純度と保護を目指しています。新たな大容量記憶媒体に要求される表面を製造するには、重要工程から汚染を一切排除する必要があります。汚染が発生すると、欠陥がディスクに及びます。基板洗浄と表面処理、およびメディア洗浄は、表面に付着した汚染物質を確実に除去するために非常に重要です。ディスク表面から汚染物質を適切に洗浄除去するために、ポールのフィルター技術が除菌剤や洗浄用薬品の使用を可能にします。

当社では、メッキ用途に使用されるCMPスラリー、超純水、洗浄用薬品などのろ過用にフィルター製品を提供しています。亜鉛めっきの初期工程用から、最終ニッケルめっき用まで、データ記憶装置のメーカーが要求するレベルにまで汚染物質を除去する多様なろ過膜を取り揃えています。当社のすべてのフィルターはクリーンルームで製造され、溶出物を最小限にし、TOC（全有機炭素）濃度を低く抑えています。データストレージ向けフィルターは、汚染物質を排除し、破局的な欠陥を低減することで重要プロセスの性能を最大限に引き出します。データストレージ製造工程の歩留まりと性能を最大限に引き出すために、プロセスを最適化する方法については、当社までお問い合わせください。