洗浄工程での 不要粒子の除去
最先端のディスプレイ洗浄システムにより、高流量で高性能な粒子除去を実現します。
ウェット洗浄
ウェット洗浄システムは、再循環薬液槽、高圧ジェット噴霧、機械式スクラビングシステムなどの滅菌システム用の清浄技術です。
これらのフィルターシステムは、お客様の仕様に応じてカスタマイズ可能で、欠陥がディプレイ表面に到達するのを阻止します。ウェット洗浄用フィルターは、ディスプレイの機能性を低下させる薬液槽中の不純物を除去します。
様々な洗浄プロセスにおいて、あらゆる用途に対応できるように、30～100 nmの最先端製品を取り揃えています。
研磨後の洗浄
ポールは、バルク向け、POU向けのいずれにも、多種類のメディアや構造からなる製品を提供し、基板製造における超平滑化の要求にお応えします。
最先端のフィルターが、不要な粒子汚染物質を除去することで、洗浄後の工程の清浄度強化を可能にします。異なる運転圧力や仕様に合わせてカスタマイズできます。ウルチプリーツPKフィルターは、オール・フロロポリマー製で、様々な薬品に適合性があります。.
当社の研磨後のろ過システムはプロセス安定性を改善すると共に、ダウンタイムを削減し、省メンテナンス化を実現するほか、後工程への汚染の流出を防止し、プロセス歩留まりを改善します。
リソグラフィ工程の洗浄
リソグラフィ用フィルターシステムは、リソグラフィ工程の薬品中の汚染物質を効果的に除去するために、多様な膜材料を使用しています。
バルクフィルターとポイントオブユース（POU）ディスペンス・フィルターは、不要粒子の付着を防ぎ、ディスプレイ基板の欠陥を低減します。粒子やゲルの除去に加え、POUフィルターはマイクロバブルの発生を極限に抑え、薬品消費量を低減し、優れた適合性を提供します。
ポールのフィルター設計最適化により、高解像度の大型基板製造に必要な腐食性薬液について、高流量での最高レベルの粒子除去効率を可能にしています。ECTFEメディアは、ゲル状粒子／軟質粒子の除去と薬品の長寿命化を目的として設計されています。
利点
- プロセスの安定性強化
- 面積／プロセス効率の向上
- 薬品の長寿命化
- ディスプレイ欠陥の低減
ポールのディスプレイ用システムは、重要な洗浄システムから、欠陥を引き起こす汚染物質を除去します。詳細は、当社までお問い合わせください。
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製造プロセスで使用される幅広い流体について、ろ過・分離・精製の技術を提供いたします